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亮镍光亮剂,特性 1.填平能力好,镀层光泽白亮美观; 2.低电位覆盖力强,可降低镀镍成本; 3.操作范围宽阔,容易控制; 4.适合作为镀铬.青铜.金.银等金属之底层镀镍配方; 5.镀层分布均匀,且不会产生化性及物理变化; 三.镀液之配制 1.注入三分之二的水于预备槽中,加热至65℃; 2.加入所需的硫酸镍及氯化镍,搅拌使其完全溶解; 3.加入碳酸镍或5%氢氧化钠溶液,调整酸碱度(PH)至5.2; 4.加入2.5毫升/升双氧化(30%),加入前先以水稀释; 5.加入活性碳3克/升,搅拌数小时,然后静置整晚; 6.用过滤泵,把镀液滤入清洁之电镀槽内; 7.将过滤泵清洗干净,然后再填装活性碳粒(0.2克/升)及助滤粉(0.2克/升); 8.加所需之硼酸及稀硫酸,调整酸碱度到4.0; 9.用波浪状的假阴极以低电流密度(0.1-0.4安培/平方分米)连续电解12小时以上,或直至低位颜色由暗黑变浅灰色; 10.加入以上的添加剂后,便可以开始电镀;循环过滤:镀液需要连续循环过滤.过滤泵在1小时内能将镀液过滤6-9次,过滤泵应每40工作小时放入活性碳0.6克/升,或每8个工作小时混入0.2克/升的活性碳于助滤粉中更佳.组成原料的功用 硫酸镍:硫酸镍为离子的主要来源,沉积在镀件上的金属镍就是由镍离子还原的. 氯化镍:氯化镍提供氯离子来帮助阳极溶解,减少阳极极化现象,增加镀液的导电性,并使阴极有较高之电流密度,同时也供应镍离子. 硼 酸:硼酸有缓行作用,可稳定阴极膜的PH值,硼酸过低,镀层会有针孔,容易变脆,硼酸过高,阳极袋会因硼酸结晶而阻塞,间接增大电阻.
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